四氟化碳CF4有毒嗎？

  四氟化碳是1926年首次製得純淨的，其主要用途是用於各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及製冷劑；四氟化碳有時會用作低溫冷卻劑。它可用於電路板的製造，以及製造絕緣物質和半導體。

  是無毒的氣體，吸入四氟化碳的後果與濃度有關，包括頭痛、惡心、頭昏眼花及心血管係統的破壞（主要是心髒）。長時間接觸會導致嚴重的心髒破壞。

 譜源氣體專業供應四氟化碳，合作多家四氟化碳客戶

  国产传媒在线純度:99.99~99.999% 
  包裝說明: 47L DOT鋼瓶，鋼瓶尺寸23 × 130cm，316L SS材質閥門，閥門型號CGA660；40L高壓無縫鋼瓶，淨重30kg/瓶，瓶頭閥是銅質閥門是QF-2，出口螺紋是G5/8
 国产传媒在线說明: 四氟化碳是不燃燒的無色、無味的壓縮氣體，充裝於四氟化碳鋼瓶中，飽和蒸汽壓約壓力2000 psig。四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛應用於矽、二氧化矽、氮化矽，磷矽玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表麵清洗，太陽能電池的生產，激光技術、氣相絕緣、低溫製冷、泄漏檢驗劑、控製宇宙火箭姿態，印刷電路生產中的去汙劑等方麵也大量使用。