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廣州市譜源氣體有限公司
工業生產中高純氣體潔淨度的控製標準
2012-8-13 13:55:23
日本把微電子生產中所采用的氣體，按其不同的品位，具體分為下列幾個不同的檔次。
超高純氣體 氣體中雜質總含量控製在1ppm以下，水份含量控製在0.2~1ppm。
高純氣體 氣體中雜質總含量控製在5%ppm以下，水份含量控製在3 ppm以內.
潔淨氣體 氣體中雜質總含量控製在10 ppm以下,對水份含量未作嚴格規定。
一、高純氣體的重要標度
通常，高純氣體係指氣體中含較少雜質氣氛（純度），微量水份（幹燥度）汙染物粒子的婁量保持在最低限度，其粒度也應是最小的（潔淨度）。因此，對於高純氣體，純度、幹燥度、潔淨是三項重要的標度。
特別是近10年來，隨著更複雜、更密集的大規模和超大規模集成電路的生產，對高純氣體潔淨度的要求，其重要程度已不亞於對純度和幹燥度有嚴格要求的用氣工藝，無一不對其中的粒子提出限製。
二、控製粒子汙染的重要性
對於控製粒子汙染的重要性，在集成電路生產、實驗部門已經有所認識，同時，實踐已向人們表明，氣體的粒子可造成微日子国产传媒在线的短路或斷路，改變半導體材料的電性能，也可以破壞其晶格結構，影響印刷板的複製等等。這些破壞性因素中的任何一個，無可導致集成電路失效的嚴重後果。通常，粒子的粒徑小到1微米的十分之幾，便可造成斷路，而更小的鑿子，便函可使線路工作降級。所以，防止粒子汙染，在微電子技術中是十分嚴格的。迄今，在純淨氣體應用技術中，對於大流量高純氣體輸送係統，美國已有輸送含0。1µm以上粒子，每立方英尺氣體中不超過10個的能力；它還為幾個係統輸送含有0.02µm以上粒子的氣體，其粒子數每立方英尺不超過10個。三、潔淨度控製的標準或規定 由於高純度體的使用地點、性質、關況（如溫度、壓力等）都不完全一致，所以，如何確定高純氣體的“三度”（純度、幹燥度、潔淨度），還沒有一個嚴格而明確的概念。 對於純度和幹燥度的控製，我國CBJ73—84《潔淨廠房設計規範》中指出，“高純氣體係指純度大於或等於99.9995%，含水量小於5ppm氣體。”
上述規定，都未涉及潔淨度。国产av资源知道，集成電路的生科，有相當一部分 是在潔淨，是防止法埃粒子汙染微電子国产传媒在线所必需的。所以，對潔淨的生產環境絕不允許采用不潔淨的氣體來破壞，必須使氣體的潔淨度與潔淨環境保持一致。為此，在下列法規和資料中，都作了相應的明確規定。
1．《空氣潔淨技術措施》
這是1979年3月由國家建委科教局批準實施的，其中對工業氣體的使用作了這樣的規定：“潔淨室內使用權用的各種氣體，如氮氣、氧氣、氫氣、氬氣和壓縮空氣等，其含塵濃度不應高於該潔淨室所規定的含水量法濃度”。在該技術措施中，把潔淨室的含塵濃度按每升環境空氣中所含粒子數量，分為5個級別，即3級、30級、300級、3000級和30000級。各級分別是每升空氣中含粒徑≥0.5µm的塵粒平均數不超過3粒、30粒、300粒、3000粒和30000粒。
平均值是指工作人員在正常操作時，在工作區平麵連續一段時間內，測得的含塵濃度的算術平均值。
該技術措施是我國正式公布的第1個潔淨技術方麵的有關規定，它由於與實踐中通常采用的“美國聯邦標準209”在級別的表示方法上完全不同，不僅使人們不習慣，而且由於其內容落後於高速發展的微電子生產的技術要求，所以，它未被真正實施和推廣。
