氘氣D2-光纖氘處理過程
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    氘氣D2-光纖氘處理過程

    2011-11-4 9:33:02

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      光纖在拉製過程中,會產生一些無序的Si-O自由基團,極易和H生成Si - OH,造1385nm處的水峰增加。因此各種全波光纖拉完絲後都要經過氘處理,才能夠經受得住長時間的含氫環境的侵蝕。
     
      氘處理的原理是讓氘和Si-O自由基團形成Si-OD,吸收峰在1850nm,這樣在光纖的整個壽命期間,氫就無法取代氘的位置。氘和Si-0自由基團的反應如下:
     
                                              Si-O + D2 → Si-OD
     
      按照ITU-T G.652C/D的要求,光纖在經過氫老化後光纖的1383±3nm處的衰減係數要不低於1310nm處的衰減,才能稱作全波光纖。
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