電子行業英文專有名詞介紹

SiH4 矽甲烷……製程氣體（洩漏有爆炸危險） NH3 氨……製程氣體 N2O 笑氣……製程氣體 PH3 磷化氫……製程氣體 N2 氮氣……製程氣體，常用為破真空Vent或吹乾的媒介 H2 氫氣……製程氣體 NF3 氟化氮……製程氣體，常用為清除CVD反應室壁沈積矽Si媒介 Kr 氪氣……製程氣體，用來轟擊濺鍍機上的金屬靶 Ar 氬氣……製程氣體，用來轟擊濺鍍機上的金屬靶或常用為加熱設備的熱傳媒介 O2 常用來作電漿的基本組成， BCl3 氯化硼……製程氣體，在乾蝕刻中用以作為蝕刻AlNd的電漿源 SF6 氟化硫……製程氣體，常用的主要乾蝕刻電漿源以為提供蝕刻主原料氟的來源 He 氦氣……製程氣體，混合在其它製程氣體中，共同形成電漿源，使電漿組成分佈均勻 Cl2 氯氣……製程氣體 HCl 氯化氫……製程氣體，蝕刻n+時的電漿源之一 CF4 四氟化碳……製程氣體，常用的主要乾蝕刻電漿源以為提供蝕刻主原料氟的來源