日本半導體製程電子氣體及中國發展情況－2008年7月

從日本半導體製程潔淨及蝕刻用氣體之現況反觀國內之發展 NF3在執行CVD腔體潔淨(Chamber Cleaning)扮演重要的角色，清潔效率極高，近年來受到「京都議定書」對全氟化物PFC（Perfluorinated Compound）的嚴格要求，原因是認為PFC造成地球暖化機率很高，因此，全球半導體廠會逐年降低對NF3的使用量，同時開發新的替代方案，市場方麵Air Products擁有40%的市場，銷售約1500噸的用量，其次是關東電化工業及三井化學各占有20%。NH3除了應用在半導體離子蝕刻(ionic etching)的製程之外，目前應用在LED以及液晶麵板的ARRAY製程端的比例逐年上拉，也因此近年來，NH3需求量明顯增加，供貨商的供貨比例形成均分的狀況，昭和電工略勝一籌，擁有32%，其餘都在20%左右。N2O俗稱笑氣，醫療用途是麻醉用，使用量已漸漸減少，反而是應用在半導體DRAM的需求增加，N2O是CVD製程所需使用的材料，可製作絕緣膜，廣泛用於半導體及液晶LCD產業，但是受到溫室效應的影響，全球半導體業仍需努力找尋替代方案，供貨商與NH3接近，其中MTG(Matheson Tri Gas)是大陽日酸投資的子公司。CF4廣泛用在半導體的幹蝕刻製程，少部分用在半導體及液晶製程中腔體的清潔，HBr則是應用在Silicon的蝕刻，HCl用途既可用在半導體幹蝕刻，也可用來作Silicon的蝕刻用氣體，日本國內CF4的供貨商以昭和電工、關東電化工業以及大金工業均分天下，韓國則有尉山化學投入，日本國內唯一可製造>99.999%HCl氣體是鶴見曹達，昭和電工的量則是鶴見曹達由OEM生產。SF6具有良好的絕緣特性，屬無臭氣體而且安定性高，是一種毒性較低的氣體，主要應用在半導體及液晶麵板的幹蝕刻製程，其次是用在CVD腔體清潔用，但由於地球暖化的因素的考慮，業者仍是積極尋找替代性方法，供應鏈同樣是由昭和電工、關東電化工業主導，高達90%以上的市占率。C2F6用途在CVD腔體的潔淨，市場由昭和電工、關東電化工業以及大金工業均分天下，外銷則以昭和電工為主。製造技術方麵，宇部興產的宇部工廠可從原料到精製BCl3，產值每年有200噸，昭和電工則是將2N(99%)的製品再加以精練到高純度。Cl2以ADEKA、昭和電工以及東亞合成三家供應，ADEKA川崎工場2007年3月年產能從300噸提升到1000噸，昭和電工也跟進，同樣在2007年年產能上拉到1000噸，可說是競爭激烈。